深圳市易捷测试技术有限公司
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APD-QE 先进光传感器量子效率光学仪
探针台|全自动探针台|硅光晶圆测试系统|半自动探针台|手动探针台|国产探针台|Hanwa ESD/ TLP测试仪|CDM测试机|晶圆级ESD测试仪|芯片HCI/BTI/TDDB/DCEM可靠性测试设备、满足实验室研发和晶圆厂量产的多种需求。广泛应用于:WAT/CP测试、I-V/C-V测试、RF/mmW测试、高压/大电流测试、在片wlr、在片老化burning、高低温测试、光电器件测试(硅光、CMOS,SPAD传感器等)、晶圆级失效分析、芯片ESD测试、半导体工艺可靠性验证、封装测试等领域
APD-QE 先进光传感器量子效率光学仪
尖端光侦测器的尖端工具
APD-QE 采用独家光束空间均匀化技术,利用 ASTM 标准的「Irradiance Mode」测试方式,与各种先进探针台形成完整的微米级光传感器全光谱量子效率测试解决方案。APD-QE 已被应用于多种先进光传感器的测试中,例如在 iPhone 光达与其多种光传感器、Apple Watch 血氧光传感器、TFT 影像传感器、有源主动图元传感器(APS)、高灵敏度间接转换 X 射线传感器等。
APD-QE 与各种探针台兼容,为各种光电探测器提供全面的测试解决方案,包括:
iPhone LiDAR 和光线传感器
Apple Watch 血氧传感器
TFT 和有源像素传感器 (APS)
高灵敏度间接转换 X 射线传感器
内部整合探针台
APD-QE 系统由于其出色的光学系统设计,可以组合多种探针台。全波长光谱仪的所有光学元件都集成在精巧的系统中。单色光从光谱仪引导到探针台遮罩盒。图片显示了 MPS-4-S 基本探针台组件,带有 4 英寸真空吸盘和 4 个带有低噪声三轴电缆的探针微定位器。
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集成探针台显微镜,手动滑块切换到被测设备的位置。使用滑动条后,单色光均质器被「固定」在设计位置。 显微图像可以显示在屏幕上,方便使用者进行良好的接触。
可定制化整合多种探针台与遮罩暗箱
APD-QE 光传感器量子效率检查系统在光斑直径 25mm 光束尺寸、工作距离 200mm 条件下检查,可以达到光强度与光均匀度如下。在波长 530nm 时,光强度可以达到 82.97μW/(cm²) 。
客户在不同的 constant photon flux(恒定光子通量)条件下,进行的光谱测试结果。 |
APD-QE(高级光电探测器量子效率测量系统)测量的典型光强度 。 照明光束尺寸为直径 25 毫米,工作距离为 200 毫米。
WL (nm) | Full Width at Half Maximum (nm) | Uniformity U%=(M-m)/(M+m) | |
5mm×5mm | 3mm×3mm | ||
470 | 17.65 | 1.6% | 1.0% |
530 | 20.13 | 1.6% | 1.2% |
630 | 19.85 | 1.6% | 0.9% |
1000 | 38.89 | 1.2% | 0.5% |
1400 | 46.05 | 1.0% | 0.5% |
1600 | 37.40 | 1.4% | 0.7% |
使用独特的 PEM(光子能量调制器)恒定光子控制功能(CP 控制模式),光子数的变化可以是 < 1%。
Measurable Parameters
Customizable Options
1. Absolute light intensity calibration | 1.Customized dark box |
2. Spectral response measurement | 2.XYZ axis displacement platform |
3. External quantum efficiency measurement (EQE) | 3.Customized probe station integration service |
4. NEP (Noise Equivalent Power) spectrum | |
5. D* (detectivity) spectrum | |
6. Noise-current-frequency response chart (A/Hz-1/2) | |
7. Flicker noise, Johnson noise, Shot noise analysis | |
8. I-V curve measurement |
均光系统与探针台整合:
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高均匀度光斑
采用独家专利傅立叶光学元件均光系统,可将单色光光强度空间分布均匀化。在 10mm x 10mm 面积以 5 x 5 检查光强度分布,不均匀度在 470nm、530nm、630nm、850nm 均可小于 1%。而在 20mm x 20mm 面积以 10 x 10 矩阵检查光强度分布,不均匀度可以小于 4%。
应用 |
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