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ESD/CDM/TLP测试仪
HANWA TLP静电测试仪 HED-T5000 TLP/VF-TLP

HANWA TLP静电测试仪 HED-T5000 TLP/VF-TLP

HANWA TLP,HANWA VF/TLP
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探针台|全自动探针台|硅光晶圆测试系统|半自动探针台|手动探针台|国产探针台|Hanwa ESD/ TLP测试仪|CDM测试机|晶圆级ESD测试仪|芯片HCI/BTI/TDDB/DCEM可靠性测试设备、满足实验室研发和晶圆厂量产的多种需求。广泛应用于:WAT/CP测试、I-V/C-V测试、RF/mmW测试、高压/大电流测试、在片wlr、在片老化burning、高低温测试、光电器件测试(硅光、CMOS,SPAD传感器等)、晶圆级失效分析、芯片ESD测试、半导体工艺可靠性验证、封装测试等领域

产品概述
产品规格表
外形尺寸


Hanwa Electric Products |易捷测试提供 HANWA TLP测试机|传输线脉冲(TLP)测试设备

产品概述:

传输线脉冲(TLP)测试可以完整的模拟线上脉冲放电,针对半导体晶圆,封装后的芯片,功率器件的静电放电模型的保护电路的测试和评估,并根据数据绘制电压电流击穿特性曲线,以得到研发人员需要的各项重要参数(Vt1,It2,Ron等)。利用测试数据可以指导ESD保护电路的可靠性设计,并研究不同类型ESD结构的特性,改善ESD保护电路的设计。


产品特点:

T5000普通型和 VF(非常快)模型。VF 型号提供正常(100nm/200nm)和 VF(1nm-)脉冲宽度。可选的自动化测试与半自动探针台整合可显着提高生产力。可与HED-W5000组合,ESD(HBM、MM)测试仪高电流输出型号(T5000-HC)现已上市。


HED-T5000 |T5000-VF |T5000-HC  TLP传输线脉冲测试机

  • 用于获取器件保护电路的相关参数特性

  • 为器件升级提供支持,缩短产品周期

  • 提供普通和VF(非常快)型号。VF模型提供正常(100nm / 200nm)和VF(1nm-)脉冲宽度。

  • 具有半自动探针台整合功能的可选自动测试可大大提高生产率。

  • 可与HED-W5000,ESD(HBM,MM)测试仪结合使用现在提供大电流输出型号(T5000-HC)。

  • 高可靠性设计,低使用成本

  • 国内外大型半导体企业有多年合作经验,是TSMC、SUMSUNG优先采购机型

  • 搭配半自动探针台、全自动探针台升级可实现自动化测试。

TLP(传输线脉冲)检测仪可以得到半导体中保护电路的活度参数。

为了提高ESD耐压性能,需要分析保护电路。测试结果中包含了许多有用的信息,节省了半导体开发过程的时间。



HEC-T5000/T5000-VF



TLP


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产品介绍:


TLP测试中最先进的测试模式

NTLP(正常的TLP)和VFTLP(非常快的TLP/短脉冲型TLP)类型都提供给我们的客户。正常型TLP的脉 冲宽度为100ns/200ns,VFTLP为1ns。这些功能可用于验证HBM/MM测试模式下的ESD耐压。

使用功能强大的监视器来支持分析

TLP测试仪中包含的示波器允许确认一个到设备的入射波和一个来自设备的反射波。入射波和反射波自 动保存后,显示在专用显示器上。专用监视器显示入射波和反射波,以及通过跟踪进行Vf/Im测量的总 反弹特性和泄漏测量值。

特征数据的差异显示

从示波器保存的数据允许具有较高灵活性的算术过程。它们可以在差分过程中显示晶体管的接通电压 或在保护电路中的最大电流值同时显示为多个轨迹。可以确认每个轨迹的差值。

连接到晶片ESD测试仪

TLP测试仪可连接晶圆ESD测试仪,可实现自动测量。自动测量和自动转移到下一个zap引脚和晶圆片 上的下一个芯片,可以提高测试效率。




数据和分析:


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可以从PC设置脉冲极性,脉冲宽度和步跃电压.步进电压 在测试中间会发生变化. 为设备保护,电压限流器为 安装在测试仪中. 具备Vf/Im泄漏测量能力.设置 测量点最大为20个点. 装置的破坏性评价可以具有泄漏测量能力.破坏性级别取 决于所设置的阈值.

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示波器和监视器可以显示入射波和 针对TLP脉冲的总电压/电流的反射波。 测量窗口的宽度和位置可以通过使用光标来调整轨迹。 为了检查工艺技术的变化,TLP测试仪在同一监视器上显 示多个快回特性。 快回特征测点与破坏性判断轨迹的关系是一一对应的。它 可以比较和验证装置的破坏点和快回特性。 泄漏测量值Vf/Im可以确认泄漏电流 对于每个TLP脉冲


标准参数


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TLP 测试机 产品系列

此设备是对保护电路的工作特性进行模拟测试的设备

对集成电路里保护电路的工作参数的收集与分析有很大帮助

也可进行VF-TLP测试

产品名/型号设备说明

HED-T5000/T5000VF
HED-T5000/
HED-T5000VF

此设备配备了最先进的测试模式

具备印加脉冲宽度为100ns/200ns的normal TLP测试与宽度到1ns的VF-TLP(Very Fast TLP)测试模式

有助于验证HBM/CDM模式的测试

对于器件管脚的入射波和器件管脚发出的反射波,都可在示波器上确认到

此数据会自动保存,并在专用的显示软件上表示

专用显示软件可对入射波/反射波的合计值,snapback特性以及漏电流测试的电流值进行图形描绘

被保存的示波器上的数据可以进行高自由度的演算处理

比如,对于不同工艺的晶体管的ON电压及可以加在保护电路上的最大电流值等,可以通过曲线的重叠描绘来确认其差异

并且可以与半自动探针台连接,实现TLP测试的自动化

由于可以在Wafer level上进行印加管脚间或芯片间的自动移位,所以能够很大地提升测试效率


HED-T5000-HC
HED-T5000-HC

目前,对于半导体器件的高集成度・高频・高耐压的需求逐年增加

对于在以往的TLP测试机无法完成的高电压・大电流的特性测试,在本设备上得以实现、并有助于高耐压元件工作参数的取得及分析

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TLP


TLP测试服务实图