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硅光探针台| 硅光子全自动探针台TS3000-SiPH

硅光测试探针台| 300mm 12英寸自动硅光子测试全自动探针台系统，硅光测试半自动探针台

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探针台|全自动探针台|硅光晶圆测试系统|半自动探针台|手动探针台|国产探针台|Hanwa ESD/ TLP测试仪|CDM测试机|晶圆级ESD测试仪|芯片HCI/BTI/TDDB/DCEM可靠性测试设备、满足实验室研发和晶圆厂量产的多种需求。广泛应用于：WAT/CP测试、I-V／C-V测试、RF/mmW测试、高压/大电流测试、在片wlr、在片老化burning、高低温测试、光电器件测试（硅光、CMOS，SPAD传感器等）、晶圆级失效分析、芯片ESD测试、半导体工艺可靠性验证、封装测试等领域

产品概述

产品规格表

外形尺寸

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TS3000-SiPH 功能集提供：

高精度光纤对准系统，在双定位器或单定位器设置中为单个或光纤阵列提供最大的灵活性
通过将晶圆包括在光纤接近检测和光纤防撞中，实现最安全的操作
推荐的器件测试温度为-40 ... 100°C; 系统性能-60 ... 300°C
通过在专用测量架中集成额外的硅光子仪器，最大限度地减少系统占用空间

专用于硅光子晶圆在片测试：

包括各种高精度光纤选项用于超快速扫描程序的对准系统
O-O，O-E，E-O和E-E设备配置的多种测量功能
集成Z感应，用于检测光纤到晶圆接触点
使用两个光纤臂时的防撞保护
建议温度范围为-40至100°C，系统支持-60°C至300°C的全范围

灵活的可扩展性：

MPI IceFreeEnvironment™，即使在负温度下，也可同时使用MicroPositi和探针卡
可编程显微镜移动更自动化和容易使用。
IC测试仪的最短电缆接口
最小化mmW的压板到卡盘距离
并使用有源探头进行探测，
支持电帧探测

人体工程学设计：

从正面轻松装载晶圆或单个DUT
集成主动隔振
完全集成的探针控制，更快，更安全方便的系统和测试操作
安全测试管理（STM™），具有自动露点控制功能
由于智能冷却器空间布置，减少了占地面积
仪器架选项，适用于较短的电缆和更高的测量动态

人体工程学设计：

从正面轻松装载晶圆或单个DUT
集成主动隔振
完全集成的探针控制，更快，更安全方便的系统和测试操作
安全测试管理（STM™），具有自动露点控制功能
由于智能冷却器空间布置，减少了占地面积
仪器架选项，适用于较短的电缆和更高的测量动态

硅光子光纤对准系统 TS3000-SiPH探头系统可轻松使用各种光纤定位平台和相关软件。最短的压板距离允许较短的光纤臂具有更高的稳定性和更低的测量噪音。可提供单纤维或多纤维阵列的解决方案，所有这些解决方案均集成了自动Z感应单元，可与光学I / O保持几微米的恒定距离。
Probe Hover Control™ MPI探头悬停控制PHC™可以轻松手动控制探头接触和分离到晶圆。分离距离可以用微米反馈精确控制探针到晶圆/焊盘定位。易于使用通过在关键设置和探头更换操作期间最小化错误来保证最安全的操作。
易于晶圆装载双前门通道和独特的卡盘设计可轻松装载/卸载150,200,300 mm晶圆，晶圆碎片或甚至小至5×5 mm IC。 AUX卡盘位于前面，可以非常方便地装载/卸载。没有推出阶段允许用于RF校准和探针卡清洁的简单自动化方法。
集成硬件控制面板智能硬件控制面板完全集成到探头系统中，基于数十年的经验和客户交互设计，提供更快，更安全，更方便的系统控制和测试操作。键盘和鼠标的战略位置，如果需要控制软件，也将控制Windows ®基于仪器。
热卡盘集成由于智能冷却器集成，TS3000系列提供优化的占地面积，以节省实验室的宝贵空间。 MPI和ERS共同设计了新的300 mm热卡盘PRIME™技术系列，提供无与伦比的热灵活性和市场上最多种类的热量范围。该系统可配置为-60°C，-40°C，-10°C，20°C或30°C的较低温度起点，以及200°C或300°C的较高端点 - 所有这些为了根据不同的要求和预算定制热能力。PRIME™技术可以在没有冷却器的情况下在-10°C下进行测试，或者在-40°C下使用非常小的冷却器进行测试，从而使系统极具成本效益，从而降低测试的总体成本。减少转换时间，改善电气性能，在惰性气体环境下更容易测试，以及现场可升级性是PRIME™热卡盘系统的附加值。热系统可以使用完全集成的触摸屏显示器操作，放置在操作员面前的方便位置，以便快速操作和立即反馈。
ERS获得专利的AC3冷却技术公司这些卡盘采用获得专利的AC3冷却技术和自我管理系统，使用循环冷却空气清洗MPI ShielDEnvironment™，与市场上的其他系统相比，可大幅减少30％至50％的空气消耗。
综合测量仪器硅光子仪器架包含定位控制硬件的所有必需组件，无缝集成，无需增加额外的占地面积。它位于用户友好的距离，便于设置操作。

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